レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240051159

申请日：

2024-03-27

公开(公告)号：

JP2025150335A

公开(公告)日：

2025-10-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015137485A1 ,2017-04-06

[2]

レジスト基材、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016158458A1 ,2017-04-27

[3]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[4]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

NAGAMINE TAKASHI ;

ODASHIMA RIN ;

IKEDA TAKUYA .

日本专利 :JP2024096809A ,2024-07-17

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[7]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025178097A ,2025-12-05

[8]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

FUJII TATSUYA ;

MURATA MARI ;

INABA YUSHI .

日本专利 :JP2024049510A ,2024-04-10

[9]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025158995A ,2025-10-17

[10]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022191182A ,2022-12-27

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