フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120557881

申请日：

2012-02-02

公开(公告)号：

JPWO2012111450A1

公开(公告)日：

2014-07-03

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/038

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/32 H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015137485A1 ,2017-04-06

[2]

レジスト基材、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016158458A1 ,2017-04-27

[3]

レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015170734A1 ,2017-04-20

[4]

レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP5861955B1 ,2016-02-16

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[7]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[8]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025178097A ,2025-12-05

[9]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

FUJII TATSUYA ;

MURATA MARI ;

INABA YUSHI .

日本专利 :JP2024049510A ,2024-04-10

[10]

レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025150335A ,2025-10-09

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