コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150550911

申请日：

2014-11-21

公开(公告)号：

JPWO2015080061A1

公开(公告)日：

2017-03-16

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09D127/12

IPC分类号：

B32B27/30 C08F16/24 C09D5/02 C09D7/12

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共 50 条

[1]

フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物[ja] [P].

日本专利 :JP2025005535A ,2025-01-17

[2]

熱成形用コーティング組成物、積層体、およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025181617A ,2025-12-11

[3]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19

[4]

フォトレジスト組成物およびその硬化物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020203790A1 ,2021-04-30

[5]

コーティング組成物、塗膜、積層体、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010104146A1 ,2012-09-13

[6]

ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、および積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019065017A1 ,2020-09-10

[7]

ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005050319A1 ,2007-06-07

[8]

フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019181228A1 ,2021-04-01

[9]

フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017527838A ,2017-09-21

[10]

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

SHIMADA MASAHIKO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022008650A ,2022-01-13

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