フォトレジスト剥離液[ja]

被引：0

申请号：

JP20230112987

申请日：

2023-07-10

公开(公告)号：

JP2024014773A

公开(公告)日：

2024-02-01

发明(设计)人：

KOBAYASHI TADASHI NISHIJIMA YOSHITAKA

申请人：

NAGASE CHEMTEX CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトレジスト剥離液[ja] [P].

日本专利 :JP2025164820A ,2025-10-30

[2]

フォトレジスト剥離液[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017065153A1 ,2018-07-26

[3]

低含水量のフォトレジスト剥離液用濃縮液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010073430A1 ,2012-05-31

[4]

半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2019518986A ,2019-07-04

[5]

半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2018503127A ,2018-02-01

[6]

フォトリソグラフィで使用されるフォトレジスト洗浄組成物及びそれを用いて基材を処理する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018523851A ,2018-08-23

[7]

リンス組成物及びそれを使用してフォトレジスト材料の表面を処理するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023504507A ,2023-02-03

[8]

液晶配向膜剥離液組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007072629A1 ,2009-05-28

[9]

ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物、及びブラックレジスト膜[ja] [P].

HIRAI JUNICHI ;

TSUJI YASUTO ;

TODA MITSUNOBU ;

NAKAGAWA TOMOKI ;

MURAKAMI NATSUKI ;

FUJII MANA .

日本专利 :JP2024006903A ,2024-01-17

[10]

ダイレクト印刷型のＰＥＴボトル[ja] [P].

日本专利 :JP2025008115A ,2025-01-20

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