フォトレジスト剥離液[ja]

被引：0

申请号：

JP20230112987

申请日：

2023-07-10

公开(公告)号：

JP2024014773A

公开(公告)日：

2024-02-01

发明(设计)人：

KOBAYASHI TADASHI NISHIJIMA YOSHITAKA

申请人：

NAGASE CHEMTEX CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[31]

プレキャスト製残存型枠パネルの塩害及び凍害を抑止するプレキャスト製残存型枠パネル、及びプレキャスト製残存型枠パネルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6537754B1 ,2019-07-03

[32]

ステンレス鋼フラックスフリーろう付用のろう材ペースト及びその製造方法、銅マンガンニッケルコバルトろう材並びに使用[ja] [P].

日本专利 :JP2024529553A ,2024-08-06

[33]

長期保存可能な吸着剤カートリッジ[ja] [P].

日本专利 :JP2025518474A ,2025-06-17

[34]

コバルト供給源から誘導される硫酸第一コバルト／ジチオン酸第一コバルト液の処理[ja] [P].

日本专利 :JP2022525405A ,2022-05-13

[35]

スラリ、研磨液セット、研磨液及びこれらを用いた基板の研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011111421A1 ,2013-06-27

[36]

セメントレス材料用急結材料、吹付け材料、吹付け工法[ja] [P].

日本专利 :JP2025152334A ,2025-10-09

[37]

アジュバント組成物及び関連方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017537106A ,2017-12-14

[38]

事前エイジングされたナトリウムニッケレートカソード材料及びそれらの使用[ja] [P].

日本专利 :JP2025514686A ,2025-05-09

[39]

実質的にポリアルキレンテレフタレートを再処理するための方法、装置、および使用[ja] [P].

日本专利 :JP2023512607A ,2023-03-28

[40]

実質的にポリアルキレンテレフタレートを再処理するための方法、装置、および使用[ja] [P].

日本专利 :JP7217352B1 ,2023-02-02

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