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ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja]

被引：0
申请号：
JP20250129812
申请日：
2025-08-04
公开(公告)号：
JP2025166041A
公开(公告)日：
2025-11-05
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/027
IPC分类号：
G03F7/20 G03F7/36
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
SAMANTHA SIAMHWA TAN ;
YU JENGYI ;
LI DA ;
FAN YIWEN ;
PAN YANG ;
MARKS JEFFEREY ;
RICHARD A GOTTSCHO ;
DANIEL PETER ;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN ;
BORIS VOLOSSKIY ;
YANG WENBING .
日本专利 :JP2024133561A ,2024-10-02
[2]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022538040A ,2022-08-31
[3]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
SAMANTHA SIAMHWA TAN ;
YU JENGYI ;
LI DA ;
FAN YIWEN ;
PAN YANG ;
MARKS JEFFEREY ;
RICHARD A GOTTSCHO ;
DANIEL PETER ;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN ;
BORIS VOLOSSKIY ;
YANG WENBING .
日本专利 :JP2025087800A ,2025-06-10
[4]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP7646929B2 ,2025-03-17
[5]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP7638428B2 ,2025-03-03
[6]
有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja] [P]. 
DICTUS DRIES ;
WU CHENGHAO ;
ERIC CALVIN HANSEN ;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN .
日本专利 :JP2025107246A ,2025-07-17
[7]
有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023551893A ,2023-12-13
[8]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
SCOTT LEWIS ;
RICHARD WINPENNY ;
STEPHEN YEATES ;
FERNANDEZ ANTONIO .
日本专利 :JP2022184876A ,2022-12-13
[9]
ハイブリッド有機スズ酸化物フォトレジストの現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024546812A ,2024-12-26
[10]
酸化性ハロゲン供与環境における有機金属レジストのガスに基づく現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025519455A ,2025-06-26
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