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半導体装置及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170555889
申请日
:
2015-12-14
公开(公告)号
:
JPWO2017103978A1
公开(公告)日
:
2018-03-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/52
IPC分类号
:
H01L21/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体基板、その製造方法及び半導体の製造方法[ja]
[P].
TAMAURA YUTAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
QD JAPAN CO LTD
QD JAPAN CO LTD
TAMAURA YUTAKA
;
KAWAMOTO TADASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
QD JAPAN CO LTD
QD JAPAN CO LTD
KAWAMOTO TADASHI
.
日本专利
:JP2024156216A
,2024-11-01
[2]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008084867A1
,2010-05-06
[3]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006134643A1
,2009-01-08
[4]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020179020A1
,2021-10-07
[5]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008114418A1
,2010-07-01
[6]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008105204A1
,2010-06-03
[7]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014170949A1
,2017-02-16
[8]
半導体素子及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003077306A1
,2005-07-07
[9]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014171014A1
,2017-02-16
[10]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014049827A1
,2016-08-22
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