半導体装置及びその製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210503339
申请日
2019-03-06
公开(公告)号
JPWO2020179020A1
公开(公告)日
2021-10-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L23/02
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体基板、その製造方法及び半導体の製造方法[ja] [P]. 
TAMAURA YUTAKA ;
KAWAMOTO TADASHI .
日本专利 :JP2024156216A ,2024-11-01
[2]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006043329A1 ,2008-05-22
[3]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008084867A1 ,2010-05-06
[4]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006134643A1 ,2009-01-08
[5]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011058651A1 ,2013-03-28
[6]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017103978A1 ,2018-03-15
[7]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018078784A1 ,2019-02-07
[8]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008114418A1 ,2010-07-01
[9]
半導体装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008105204A1 ,2010-06-03
[10]
半導体装置の製造方法、及び、半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014170949A1 ,2017-02-16