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フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220064454
申请日
:
2022-04-08
公开(公告)号
:
JP2022089903A
公开(公告)日
:
2022-06-16
发明(设计)人
:
TANABE MASARU
ASAKAWA TAKASHI
YASUMORI JUNICHI
HANAOKA OSAMU
申请人
:
HOYA CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F1/32
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022189860A
,2022-12-22
[2]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022136193A
,2022-09-15
[3]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025174339A
,2025-11-28
[4]
フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja]
[P].
INAZUKI SADAOMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
INAZUKI SADAOMI
;
SASAMOTO KOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SASAMOTO KOHEI
;
MATSUHASHI NAOKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
MATSUHASHI NAOKI
.
日本专利
:JP2022093557A
,2022-06-23
[5]
フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6993530B1
,2022-01-13
[6]
フォトマスクの製造方法及びフォトマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP7724048B1
,2025-08-15
[7]
フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6271803B1
,2018-01-31
[8]
フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6368000B1
,2018-08-01
[9]
マスクブランクスの製造方法及びマスクブランクス、フォトマスク[ja]
[P].
MOCHIZUKI SEI
论文数:
0
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0
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0
机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
MOCHIZUKI SEI
;
SHIOZAKI EIJI
论文数:
0
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机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
SHIOZAKI EIJI
;
SEKINE MASAHIRO
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机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
SEKINE MASAHIRO
;
AZUMA SAYURI
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机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
AZUMA SAYURI
;
YAMADA SHINGO
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机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
YAMADA SHINGO
;
MORIYAMA KUMIKO
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0
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0
机构:
ULVAC SEIMAKU KK
ULVAC SEIMAKU KK
MORIYAMA KUMIKO
.
日本专利
:JP2024006247A
,2024-01-17
[10]
フォトマスクブランク及びフォトマスク[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008139904A1
,2010-07-29
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