フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210094790

申请日：

2021-06-04

公开(公告)号：

JP6993530B1

公开(公告)日：

2022-01-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F1/58

IPC分类号：

C23C14/04 C23C14/06

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトマスク及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

TANAKA CHIE ;

BANDO HIROKI ;

KAWAHARA MIYU ;

YAMADA SHINGO ;

MORIYAMA KUMIKO .

日本专利 :JP2024134433A ,2024-10-03

[2]

フォトマスクの製造方法及びフォトマスク[ja] [P].

日本专利 :JP7724048B1 ,2025-08-15

[3]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15

[4]

フォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7450784B1 ,2024-03-15

[5]

フォトマスクの製造方法[ja] [P].

MORIYAMA KUMIKO ;

YAMADA SHINGO .

日本专利 :JP2024150297A ,2024-10-23

[6]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022189860A ,2022-12-22

[7]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法[ja] [P].

TANABE MASARU ;

ASAKAWA TAKASHI ;

YASUMORI JUNICHI ;

HANAOKA OSAMU .

日本专利 :JP2022089903A ,2022-06-16

[8]

フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025174339A ,2025-11-28

[9]

フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

INAZUKI SADAOMI ;

SASAMOTO KOHEI ;

MATSUHASHI NAOKI .

日本专利 :JP2022093557A ,2022-06-23

[10]

フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6271803B1 ,2018-01-31

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