フォトマスクの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230063649

申请日：

2023-04-10

公开(公告)号：

JP7450784B1

公开(公告)日：

2024-03-15

发明(设计)人：

申请人：

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IPC主分类号：

G03F1/29

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6993530B1 ,2022-01-13

[2]

フォトマスクの製造方法[ja] [P].

MORIYAMA KUMIKO ;

YAMADA SHINGO .

日本专利 :JP2024150297A ,2024-10-23

[3]

フォトマスク及びフォトマスクの製造方法[ja] [P].

TANAKA CHIE ;

BANDO HIROKI ;

KAWAHARA MIYU ;

YAMADA SHINGO ;

MORIYAMA KUMIKO .

日本专利 :JP2024134433A ,2024-10-03

[4]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15

[5]

フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010050447A1 ,2012-03-29

[6]

フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010038444A1 ,2012-03-01

[7]

フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009123171A1 ,2011-07-28

[8]

フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009123170A1 ,2011-07-28

[9]

フォトマスクブランク及びその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007037383A1 ,2009-04-16

[10]

ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015507227A ,2015-03-05

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