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配線基板、配線基板の製造方法及び中間生成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210107024
申请日
:
2021-06-28
公开(公告)号
:
JP2023005239A
公开(公告)日
:
2023-01-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05K1/02
IPC分类号
:
H05K1/11
H05K3/40
H05K3/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
配線基板の製造方法及び中間生成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2023005240A
,2023-01-18
[2]
配線基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022112343A
,2022-08-02
[3]
配線基板及びその製造方法[ja]
[P].
YAMAMURA KYOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINKO ELECTRIC IND CO
SHINKO ELECTRIC IND CO
YAMAMURA KYOTA
.
日本专利
:JP2024093387A
,2024-07-09
[4]
配線回路基板および配線回路基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025008669A
,2025-01-20
[5]
配線基板[ja]
[P].
FURUYA TOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBIDEN CO LTD
IBIDEN CO LTD
FURUYA TOSHIKI
.
日本专利
:JP2024032317A
,2024-03-12
[6]
配線基板[ja]
[P].
KUNIEDA MASATOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBIDEN CO LTD
IBIDEN CO LTD
KUNIEDA MASATOSHI
.
日本专利
:JP2024013031A
,2024-01-31
[7]
多層配線基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008075521A1
,2010-04-08
[8]
中間生成物貯蔵方法および中間生成物製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6251010B2
,2017-12-20
[9]
配線基板およびその設計方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016117320A1
,2017-10-05
[10]
半導体装置実装用の配線基板およびその製造方法[ja]
[P].
TAMURA TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOPPAN HOLDINGS INC
TOPPAN HOLDINGS INC
TAMURA TAKESHI
.
日本专利
:JP2024160762A
,2024-11-15
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