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レーザ溶接システムおよび方法[ja]
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申请号
:
JP20200573361
申请日
:
2019-07-02
公开(公告)号
:
JP2021529691A
公开(公告)日
:
2021-11-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B29C65/16
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
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法律状态信息
共 50 条
[1]
イメージ具備溶接シームを生成するためのレーザ溶接システム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019534812A
,2019-12-05
[2]
溶接部の幅を制御するためにマスクを使用するレーザ溶接のシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019529193A
,2019-10-17
[3]
ガスシールド赤外線溶着およびステーキングシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2020534192A
,2020-11-26
[4]
セパレータ付き電極を製造するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019510345A
,2019-04-11
[5]
電気化学デバイスを製造するシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015519708A
,2015-07-09
[6]
一方向繊維テープを生産するための方法およびシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2020512211A
,2020-04-23
[7]
熱可塑性材料内へのガス注入方法および関連システム[ja]
[P].
日本专利
:JP6134339B2
,2017-05-24
[8]
熱可塑性材料内へのガス注入方法および関連システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2015518496A
,2015-07-02
[9]
静電塗装のシステム及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024542052A
,2024-11-13
[10]
レーザマーキング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010087327A1
,2012-08-02
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