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放射性同位体を生成するための方法及び装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140535039
申请日
:
2012-10-10
公开(公告)号
:
JP6301254B2
公开(公告)日
:
2018-03-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G21G1/10
IPC分类号
:
G21K5/04
G21K5/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
放射性同位体を生成するための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2014529089A
,2014-10-30
[2]
放射性同位体の生成[ja]
[P].
日本专利
:JP2025540081A
,2025-12-11
[3]
放射性同位体を生成するための材料及びプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2024534855A
,2024-09-26
[4]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7407097B2
,2023-12-28
[5]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7426327B2
,2024-02-01
[6]
陽子生成装置、放射性同位体生成装置、陽子の生成方法及び放射性同位体の生成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7109772B2
,2022-08-01
[7]
放射性同位体の量を決定する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021508053A
,2021-02-25
[8]
放射性同位体の量を決定する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7213880B2
,2023-01-27
[9]
放射性同位体製造装置及び放射性同位体製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025169525A
,2025-11-14
[10]
放射性同位体製造方法及び放射性同位体製造装置[ja]
[P].
MIYADERA HARUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
MIYADERA HARUO
;
OMIKA SHUNICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
OMIKA SHUNICHIRO
;
FUJIMAKI TAKURO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
FUJIMAKI TAKURO
;
UENO SOICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
UENO SOICHI
;
KANEMURA SHOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
KANEMURA SHOHEI
.
日本专利
:JP2024156358A
,2024-11-06
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