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液浸露光用フォトレジスト組成物、重合体及び化合物[ja]
被引：0
申请号：
JP20140508236
申请日：
2013-03-29
公开(公告)号：
JPWO2013147266A1
公开(公告)日：
2015-12-14
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/039
IPC分类号：
C08F20/22
G03F7/38
H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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