シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20200511001
申请日
2019-03-28
公开(公告)号
JP7213234B2
公开(公告)日
2023-01-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C09K3/14
IPC分类号
B24B37/00 C01B33/141 C09G1/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
シリカ粒子及びシリカ粒子分散液[ja] [P]. 
日本专利 :JP6654424B2 ,2020-02-26
[3]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018181713A1 ,2020-05-14
[4]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7021194B2 ,2022-02-16
[5]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5906635B2 ,2016-04-20
[7]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7054628B2 ,2022-04-14
[8]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6255471B1 ,2017-12-27
[9]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7007181B2 ,2022-02-10
[10]
シリカ粒子分散液及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7351697B2 ,2023-09-27