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シリカ粒子分散液の製造方法およびシリカ粒子分散液を用いた研磨方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130012148
申请日
:
2013-01-25
公开(公告)号
:
JP6011361B2
公开(公告)日
:
2016-10-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B33/141
IPC分类号
:
B01J13/00
B24B37/00
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019189610A1
,2021-05-13
[2]
シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7213234B2
,2023-01-26
[3]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018181713A1
,2020-05-14
[4]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7021194B2
,2022-02-16
[5]
シリカ粒子分散液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5906635B2
,2016-04-20
[6]
シリカ粒子及びシリカ粒子分散液[ja]
[P].
日本专利
:JP6654424B2
,2020-02-26
[7]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020075654A1
,2021-09-16
[8]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7436268B2
,2024-02-21
[9]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7591376B2
,2024-11-28
[10]
シリカ系粒子分散液およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7313373B2
,2023-07-24
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