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排水処理のための機械設備および方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150542995
申请日
:
2013-11-12
公开(公告)号
:
JP2016501123A
公开(公告)日
:
2016-01-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C02F3/34
IPC分类号
:
B01D19/00
C02F1/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
処理設備、および処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7668573B1
,2025-04-25
[2]
処理設備、および処理方法[ja]
[P].
MIYAGI HIROAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RYUUKYUU CEMENT KK
RYUUKYUU CEMENT KK
MIYAGI HIROAKI
.
日本专利
:JP2025088225A
,2025-06-11
[3]
排水の処理方法およびその利用[ja]
[P].
日本专利
:JP2025140152A
,2025-09-29
[4]
処分のための廃イオン交換樹脂の処理方法および実施設備[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511482A
,2021-05-06
[5]
排ガス処理設備排水の処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025004559A
,2025-01-15
[6]
治療的加熱処理のための装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018517662A
,2018-07-05
[7]
表面処理方法およびそのための組成物[ja]
[P].
WILLIAM A WOJTCZAK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
WILLIAM A WOJTCZAK
;
PARK KEEYOUNG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
PARK KEEYOUNG
;
MIZUTANI ATSUSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
FUJIFILM ELECTRONIC MAT USA INC
MIZUTANI ATSUSHI
.
日本专利
:JP2024103792A
,2024-08-01
[8]
発色処理された基材およびこのための基材の発色処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017503076A
,2017-01-26
[9]
液体または半液体の食品を処理するための低温殺菌機械および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025169187A
,2025-11-12
[10]
黒色スラグを処理するための改良された方法および設備[ja]
[P].
日本专利
:JP2024511294A
,2024-03-13
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