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高分岐高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180504520
申请日
:
2017-03-07
公开(公告)号
:
JP6882721B2
公开(公告)日
:
2021-06-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C18/28
IPC分类号
:
C08L101/02
G03F7/004
G03F7/027
G03F7/031
G03F7/075
G03F7/40
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分岐高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JP6879470B2
,2021-06-02
[2]
高分岐高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017142022A1
,2018-12-13
[3]
高分岐高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017154919A1
,2019-01-10
[4]
高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7652183B2
,2025-03-27
[5]
高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019171985A1
,2021-03-04
[6]
高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7401856B2
,2023-12-20
[7]
高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7280559B2
,2023-05-24
[8]
高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020129649A1
,2021-11-04
[9]
無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014042215A1
,2016-08-18
[10]
ハイパーブランチポリマー及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤[ja]
[P].
日本专利
:JP6304512B2
,2018-04-04
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