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基板吸着装置及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090524417
申请日
:
2008-06-05
公开(公告)号
:
JPWO2009013941A1
公开(公告)日
:
2010-09-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/683
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
吸着装置、吸着装置の製造方法、及び真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016159342A1
,2018-01-11
[2]
静電吸着部材、静電吸着装置、及び静電吸着部材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023037788A
,2023-03-16
[3]
吸着剤並びにその使用方法及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016080546A1
,2017-09-07
[4]
砥石及びその製造方法[ja]
[P].
TAKADA ATSUSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
TAKADA ATSUSHI
;
OHASHI KYOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
OHASHI KYOSUKE
;
TAKADA DAICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
TAKADA DAICHI
;
TAKADA YAMATO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
TAKADA YAMATO
;
KIMURA YUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
KIMURA YUKI
;
WATANABE RIKU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
WATANABE RIKU
;
HOSHINA KOKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NANOTEMU KK
NANOTEMU KK
HOSHINA KOKI
.
日本专利
:JP2024176178A
,2024-12-19
[5]
基板の製造方法及び処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025174122A
,2025-11-28
[6]
吸着装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3211688U
,2017-07-27
[7]
基板の製造方法[ja]
[P].
SETO YUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
SETO YUYA
.
日本专利
:JP2025122547A
,2025-08-21
[8]
基板の製造方法[ja]
[P].
SETO YUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
DISCO ABRASIVE SYSTEMS LTD
SETO YUYA
.
日本专利
:JP2025077095A
,2025-05-19
[9]
吸着装置及び真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016159239A1
,2017-08-03
[10]
トレー及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6501963B1
,2019-04-17
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