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吸着装置及び真空処理装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170510190
申请日
:
2016-03-31
公开(公告)号
:
JPWO2016159239A1
公开(公告)日
:
2017-08-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H02N13/00
IPC分类号
:
H01L21/683
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
吸着装置、真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016167224A1
,2018-01-18
[2]
吸着装置、吸着装置の製造方法、及び真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016159342A1
,2018-01-11
[3]
吸着装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3211688U
,2017-07-27
[4]
磁気吸着装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7550396B1
,2024-09-13
[5]
磁気吸着装置[ja]
[P].
PAN SIYI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NSK LTD
NSK LTD
PAN SIYI
;
TESHIGAWARA SEIICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NSK LTD
NSK LTD
TESHIGAWARA SEIICHI
;
CHIBA GENAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NSK LTD
NSK LTD
CHIBA GENAKI
.
日本专利
:JP2025085344A
,2025-06-05
[6]
基板吸着装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009013941A1
,2010-09-30
[7]
吸着装置、箱詰め装置、及び、箱詰め方法[ja]
[P].
KIKUCHI SHINNOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOPPAN HOLDINGS INC
TOPPAN HOLDINGS INC
KIKUCHI SHINNOSUKE
.
日本专利
:JP2024027401A
,2024-03-01
[8]
静電チャック及び真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010024146A1
,2012-01-26
[9]
クリーニング方法及び真空処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007132757A1
,2009-09-24
[10]
吸着部材およびそれを用いた吸着装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014103714A1
,2017-01-12
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