吸着装置及び真空処理装置[ja]

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申请号
JP20170510190
申请日
2016-03-31
公开(公告)号
JPWO2016159239A1
公开(公告)日
2017-08-03
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H02N13/00
IPC分类号
H01L21/683
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
吸着装置、真空処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016167224A1 ,2018-01-18
[2]
[3]
吸着装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP3211688U ,2017-07-27
[4]
磁気吸着装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7550396B1 ,2024-09-13
[5]
磁気吸着装置[ja] [P]. 
PAN SIYI ;
TESHIGAWARA SEIICHI ;
CHIBA GENAKI .
日本专利 :JP2025085344A ,2025-06-05
[6]
基板吸着装置及びその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009013941A1 ,2010-09-30
[7]
吸着装置、箱詰め装置、及び、箱詰め方法[ja] [P]. 
KIKUCHI SHINNOSUKE .
日本专利 :JP2024027401A ,2024-03-01
[8]
静電チャック及び真空処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010024146A1 ,2012-01-26
[9]
クリーニング方法及び真空処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007132757A1 ,2009-09-24
[10]
吸着部材およびそれを用いた吸着装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014103714A1 ,2017-01-12