イオン注入システム、イオン注入装置及び抽出プレート[ja]

被引:0
申请号
JP20200523369
申请日
2018-10-09
公开(公告)号
JP2021501963A
公开(公告)日
2021-01-21
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01J37/317
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6086845B2 ,2017-03-01
[3]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689544B2 ,2020-04-28
[4]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5780122B2 ,2015-09-16
[5]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6324223B2 ,2018-05-16
[6]
イオン注入方法及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5767983B2 ,2015-08-26
[7]
イオン注入方法及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6195538B2 ,2017-09-13
[8]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6415090B2 ,2018-10-31
[9]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7636734B2 ,2025-02-27
[10]
イオン注入装置及びイオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5718169B2 ,2015-05-13