４−メチル−１，３−チアゾール−２−イルスルホニルハライドの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20040534187

申请日：

2003-09-08

公开(公告)号：

JPWO2004022549A1

公开(公告)日：

2005-12-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D277/20

IPC分类号：

C07D277/36

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共 50 条

[1]

インダゾール−３−イルメチルホスホニウム塩の製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006118257A1 ,2008-12-18

[2]

（４−フェニルチアゾール−２−イル）アルカンニトリルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002079177A1 ,2004-07-22

[3]

Ｎ−［５−（アミノスルホニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−２−イル］−Ｎ−メチル−２−［４−（２−ピリジニル）フェニル］アセトアミドメシレート一水和物[ja] [P].

日本专利 :JP2014528948A ,2014-10-30

[4]

（ピラゾール−３−イル）−１、３、４−チアジアゾール−２−アミンおよび（ピラゾール−３−イル）−１、３、４−チアゾール−２−アミン化合物[ja] [P].

日本专利 :JP5697657B2 ,2015-04-08

[5]

（（Ｒ）−３−［（−１−メチルピロリジン−２−イル）メチル］−５−（２−フェニルスルホニルエチル）−１Ｈ−インドールを作製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019502761A ,2019-01-31

[6]

（５−フルオロ−２−メチル−３−キノリン−２−イルメチル−インドール−１−イル）−酢酸エステルの製造のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015500325A ,2015-01-05

[7]

５−メチル−４−フルオロ−チアゾール−２−イル化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2021533105A ,2021-12-02

[8]

Ｎ−［５−（アミノスルホニル）−４−メチル−１，３−チアゾール−２−イル］−Ｎ−メチル−２−［４−（２−ピリジニル）−フェニル］−アセトアミド遊離塩基半水和物、製造方法およびその用途[ja] [P].

日本专利 :JP2020509991A ,2020-04-02

[9]

１－メチル－５－ホルミル－１Ｈ－イミダゾールの製造方法[ja] [P].

OOKA HIROHITO ;

YANAKA SATORU .

日本专利 :JP2024089951A ,2024-07-04

[10]

１−ビフェニルメチルイミダゾール化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009151016A1 ,2011-11-17

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