インダゾール−３−イルメチルホスホニウム塩の製造法[ja]

被引：0

申请号：

JP20070514838

申请日：

2006-04-28

公开(公告)号：

JPWO2006118257A1

公开(公告)日：

2008-12-18

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IPC主分类号：

C07F9/6503

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共 50 条

[1]

ビススルホニルイミドアンモニウム塩、ビススルホニルイミドおよびビススルホニルイミドリチウム塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011027867A1 ,2013-02-04

[2]

４−メチル−１，３−チアゾール−２−イルスルホニルハライドの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004022549A1 ,2005-12-22

[3]

フルオロスルホニルイミドアンモニウム塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012108284A1 ,2014-07-03

[4]

フルオロスルホニルイミドアンモニウム塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012117961A1 ,2014-07-07

[5]

１－メチル－５－ホルミル－１Ｈ－イミダゾールの製造方法[ja] [P].

OOKA HIROHITO ;

YANAKA SATORU .

日本专利 :JP2024089951A ,2024-07-04

[6]

スルホニウム塩化合物の製造方法[ja] [P].

TAZAKI YASUTAKA ;

WADA KENJI .

日本专利 :JP2024010326A ,2024-01-24

[7]

アリールジアダマンチルホスフィン誘導体の製造方法及びアリールジアダマンチルホスホニウム塩誘導体の製造方法[ja] [P].

SANO NATSUHIRO ;

TAMURA TAKESHI ;

FURUI ERI .

日本专利 :JP2024155687A ,2024-10-31

[8]

環状スルホニウム塩、環状スルホニウム塩の製造方法およびグルコシダ−ゼ阻害剤[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008082017A1 ,2010-04-30

[9]

リチウムビス（フルオロスルホニル）イミドの新規の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019501858A ,2019-01-24

[10]

スルホン酸エステルの製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008032463A1 ,2010-01-21

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