スルホニウム塩化合物の製造方法[ja]

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申请号
JP20220111603
申请日
2022-07-12
公开(公告)号
JP2024010326A
公开(公告)日
2024-01-24
发明(设计)人
TAZAKI YASUTAKA WADA KENJI
申请人
FUJIFILM CORP FUJIFILM WAKO PURE CHEMICAL CORP
申请人地址
IPC主分类号
C07C381/12
IPC分类号
C07C53/40 C07D327/06 C07D333/46
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
スルホニウム化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5897871B2 ,2016-04-06
[2]
スルホニウム化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5727830B2 ,2015-06-03
[3]
スルホニルウレア化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023065730A ,2023-05-15
[4]
第4級ホスホニウム化合物の製造方法[ja] [P]. 
MASUDA YUSUKE ;
SAWAMURA MASAYA ;
YOSHIDA MAKI .
日本专利 :JP2024098853A ,2024-07-24
[5]
芳香族スルホニウム塩化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011052327A1 ,2013-03-21
[6]
芳香族スルホニウム塩化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5717959B2 ,2015-05-13
[7]
芳香族スルホニウム塩化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5635526B2 ,2014-12-03
[8]
芳香族スルホニウム塩化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009020089A1 ,2010-11-04
[9]
ホスホニウム化合物。[ja] [P]. 
日本专利 :JP5665340B2 ,2015-02-04
[10]
アセチル化スルホニウム化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5918670B2 ,2016-05-18