共 50 条
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高周波半導体装置及び高周波半導体装置の製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20120283267
申请日：
2012-12-26
公开(公告)号：
JP5978986B2
公开(公告)日：
2016-08-24
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L27/12
IPC分类号：
H01L21/02
H01L21/336
H01L21/76
H01L21/822
H01L21/8234
H01L27/04
H01L27/06
H01L27/08
H01L29/786
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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