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高周波基板および、これを用いた高周波モジュール[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090538003
申请日
:
2008-09-10
公开(公告)号
:
JPWO2009054201A1
公开(公告)日
:
2011-03-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01P1/04
IPC分类号
:
H01L23/12
H01P3/02
H01P5/08
H05K1/02
H05K3/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波基板および、これを用いた高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009037918A1
,2011-01-06
[2]
高周波基板および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010013721A1
,2012-01-12
[3]
高周波基板および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009119443A1
,2011-07-21
[4]
高周波基体、高周波基体を用いた高周波パッケージ、および高周波モジュール[ja]
[P].
KAWAZU YOSHIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KYOCERA CORP
KAWAZU YOSHIKI
.
日本专利
:JP2022060326A
,2022-04-14
[5]
高周波基体、高周波基体を用いた高周波パッケージ、および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JP7244687B2
,2023-03-22
[6]
高周波基板、高周波パッケージおよび高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017170389A1
,2019-01-17
[7]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja]
[P].
日本专利
:JP5700170B2
,2015-04-15
[8]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013125363A1
,2015-07-30
[9]
高周波部品およびこれを備える高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JP6119845B2
,2017-04-26
[10]
高周波部品およびこれを備える高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014171225A1
,2017-02-16
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