高周波基板および、これを用いた高周波モジュール[ja]

被引:0
申请号
JP20090538003
申请日
2008-09-10
公开(公告)号
JPWO2009054201A1
公开(公告)日
2011-03-03
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01P1/04
IPC分类号
H01L23/12 H01P3/02 H01P5/08 H05K1/02 H05K3/46
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[2]
高周波基板および高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010013721A1 ,2012-01-12
[3]
高周波基板および高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009119443A1 ,2011-07-21
[4]
高周波基体、高周波基体を用いた高周波パッケージ、および高周波モジュール[ja] [P]. 
KAWAZU YOSHIKI .
日本专利 :JP2022060326A ,2022-04-14
[7]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja] [P]. 
日本专利 :JP5700170B2 ,2015-04-15
[8]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013125363A1 ,2015-07-30
[9]
[10]
高周波部品およびこれを備える高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014171225A1 ,2017-02-16