レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20100540485

申请日：

2009-11-25

公开(公告)号：

JPWO2010061833A1

公开(公告)日：

2012-04-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/40

IPC分类号：

C08F212/14 C08F220/58 C08K5/151 C08L101/00 H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010032839A1 ,2012-02-16

[2]

レジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025157761A ,2025-10-16

[3]

レジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025157762A ,2025-10-16

[4]

レジストパターン形成方法及びレジスト[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017169807A1 ,2019-02-14

[5]

レジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022100844A ,2022-07-06

[6]

レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025154447A ,2025-10-10

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および塩[ja] [P].

ARAI MASATOSHI ;

INARI TAKATOSHI ;

UCHIDA EMI ;

SAKATA MAKOTO .

日本专利 :JP2024017219A ,2024-02-08

[8]

レジスト材料及びパターン形成方法[ja] [P].

HATAKEYAMA JUN ;

FUKUSHIMA MASAHIRO .

日本专利 :JP2025020011A ,2025-02-07

[9]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[10]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

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