レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220039730

申请日：

2022-03-14

公开(公告)号：

JP2022091817A

公开(公告)日：

2022-06-21

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/038

IPC分类号：

C09K3/00 G03F7/004 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[2]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[3]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054563A1 ,2021-08-30

[4]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022191182A ,2022-12-27

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

TSUCHIYA JUNICHI ;

FUJISAKI MASAFUMI .

日本专利 :JP2022079741A ,2022-05-26

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022088041A ,2022-06-14

[7]

レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7144592B1 ,2022-09-29

[8]

レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

SOMEYA YASUO ;

HAYAKAWA MASARU .

日本专利 :JP2025066448A ,2025-04-23

[9]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物[ja] [P].

KATO HIROKI ;

NGUYEN KHANHTIN .

日本专利 :JP2025065749A ,2025-04-22

[10]

レジスト用樹脂、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005016982A1 ,2006-10-12

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