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レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200545963
申请日
:
2019-09-05
公开(公告)号
:
JPWO2020054563A1
公开(公告)日
:
2021-08-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/038
IPC分类号
:
C08F20/10
G03F7/039
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022091817A
,2022-06-21
[2]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022088041A
,2022-06-14
[3]
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7144592B1
,2022-09-29
[4]
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja]
[P].
SOMEYA YASUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
SOMEYA YASUO
;
HAYAKAWA MASARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
HAYAKAWA MASARU
.
日本专利
:JP2025066448A
,2025-04-23
[5]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物[ja]
[P].
KATO HIROKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
KATO HIROKI
;
NGUYEN KHANHTIN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
NGUYEN KHANHTIN
.
日本专利
:JP2025065749A
,2025-04-22
[6]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP5941820B2
,2016-06-29
[7]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6368558B2
,2018-08-01
[8]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6322424B2
,2018-05-09
[9]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6175232B2
,2017-08-02
[10]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP5856441B2
,2016-02-09
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