レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引:0
申请号
JP20200545963
申请日
2019-09-05
公开(公告)号
JPWO2020054563A1
公开(公告)日
2021-08-30
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/038
IPC分类号
C08F20/10 G03F7/039
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022091817A ,2022-06-21
[2]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022088041A ,2022-06-14
[3]
[4]
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja] [P]. 
SOMEYA YASUO ;
HAYAKAWA MASARU .
日本专利 :JP2025066448A ,2025-04-23
[5]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物[ja] [P]. 
KATO HIROKI ;
NGUYEN KHANHTIN .
日本专利 :JP2025065749A ,2025-04-22