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導電膜の製造方法および導電膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190564326
申请日
:
2018-11-27
公开(公告)号
:
JPWO2019138706A1
公开(公告)日
:
2021-01-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01B13/00
IPC分类号
:
H01B1/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
導電膜および導電膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008105198A1
,2010-06-03
[2]
透明導電膜および透明導電膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009031399A1
,2010-12-09
[3]
透明導電膜およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008099932A1
,2010-05-27
[4]
導電酸化物膜および導電積層膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6686730B2
,2020-04-22
[5]
導電膜用素材、導電膜積層体、電子機器、ならびに導電膜用素材および導電膜積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013172354A1
,2016-01-12
[6]
導電膜形成用組成物及び導電膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019189251A1
,2021-03-18
[7]
酸化物超電導膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5658891B2
,2015-01-28
[8]
酸化物超電導導体用基材の製造方法および酸化物超電導導体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5941636B2
,2016-06-29
[9]
複合酸化物透明導電膜、その製造方法及び透明導電膜付基材[ja]
[P].
日本专利
:JP7119507B2
,2022-08-17
[10]
製膜方法、製膜装置および電極箔の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020171114A1
,2021-12-16
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