製膜方法、製膜装置および電極箔の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210502075

申请日：

2020-02-19

公开(公告)号：

JPWO2020171114A1

公开(公告)日：

2021-12-16

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/02

IPC分类号：

C23C16/40 C23C16/455 H01G9/00 H01G13/00

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共 50 条

[1]

製膜方法、製膜装置および電極箔の製造方法[ja] [P].

KURIHARA NAOMI ;

YAMAGUCHI AKIHIRO ;

YOSHIMURA MITSUHISA ;

OGAWA YOSHIKAZU .

日本专利 :JP2025016573A ,2025-02-04

[2]

電極の製造方法および電極の製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025147965A ,2025-10-07

[3]

製膜装置、製膜方法、容器の製造方法、および、容器[ja] [P].

日本专利 :JP2025005898A ,2025-01-17

[4]

製膜装置、製膜方法、容器の製造方法、および、容器[ja] [P].

日本专利 :JP2025005899A ,2025-01-17

[5]

製膜装置および製膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP5625830B2 ,2014-11-19

[6]

電極箔の製造方法および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

OGAWA YOSHIKAZU ;

KAWACHI AYUMI ;

TSUDA YASUHIRO .

日本专利 :JP2022020800A ,2022-02-01

[7]

電極箔の製造方法および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017154461A1 ,2019-01-10

[8]

電極箔の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022160077A ,2022-10-19

[9]

導電膜の製造方法および導電膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019138706A1 ,2021-01-14

[10]

導電膜および導電膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008105198A1 ,2010-06-03

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