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セリウム系研摩材及びセリウム系研摩材の評価方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20020549799
申请日
:
2001-12-12
公开(公告)号
:
JPWO2002048280A1
公开(公告)日
:
2004-04-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K3/14
IPC分类号
:
B24B37/00
B24D3/34
C01F17/259
C09G1/02
G01N23/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
セリウム系研摩材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004092297A1
,2006-07-06
[2]
セリウム系研摩材およびその原料[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005000992A1
,2006-07-27
[3]
研摩スラリー及び研摩材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017138308A1
,2018-11-29
[4]
セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019049932A1
,2020-05-28
[5]
研摩材および研摩スラリー[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158328A1
,2017-09-14
[6]
セリウム系研磨材及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017051629A1
,2018-03-08
[7]
セリウム系複合酸化物粉末、摩擦材組成物、及び、摩擦材[ja]
[P].
日本专利
:JP7568857B2
,2024-10-16
[8]
セリウム系複合酸化物粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7533032B2
,2024-08-14
[9]
セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法[ja]
[P].
YAMANO HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
YAMANO HIROSHI
;
MASUDA TOMOYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
MASUDA TOMOYUKI
;
MIYAMA MASATERU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
MIYAMA MASATERU
.
日本专利
:JP2025027140A
,2025-02-26
[10]
セリウム−ジルコニウム系複合酸化物及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5989023B2
,2016-09-07
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