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セリウム系研磨材、研磨液、研磨液の製造方法、及びガラス研磨方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20240213113
申请日：
2024-12-06
公开(公告)号：
JP2025027140A
公开(公告)日：
2025-02-26
发明(设计)人：
YAMANO HIROSHI MASUDA TOMOYUKI MIYAMA MASATERU
申请人：
RESONAC HOLDINGS CORP
申请人地址：
IPC主分类号：
C09K3/14
IPC分类号：
B24B37/00 C01F17/259 C09G1/02
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
スラリ、研磨液の製造方法、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020021731A1 ,2021-08-05
[2]
スラリ、研磨液の製造方法、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020021730A1 ,2021-08-02
[3]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
ARAKI MOTOAKI ;
KUZUYA TAKUYA ;
ICHIKAWA YUKI ;
TANAKA TAKAAKI ;
MATSUMOTO TAKAAKI .
日本专利 :JP2025060389A ,2025-04-10
[4]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
ARAKI MOTOAKI ;
KUZUYA TAKUYA ;
ICHIKAWA YUKI ;
TANAKA TAKAAKI ;
MATSUMOTO TAKAAKI .
日本专利 :JP2025072442A ,2025-05-09
[5]
研磨液セット、研磨液の製造方法、研磨液、及び、研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7635875B1 ,2025-02-26
[6]
セリウム系研磨材用原料の製造方法、及びセリウム系研磨材の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019049932A1 ,2020-05-28
[7]
スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013175857A1 ,2016-01-12
[8]
スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015030009A1 ,2017-03-02
[9]
スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013175859A1 ,2016-01-12
[10]
スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013175854A1 ,2016-01-12
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