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酸性ガス分離装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200525093
申请日
:
2018-06-18
公开(公告)号
:
JPWO2019244211A1
公开(公告)日
:
2021-03-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D53/22
IPC分类号
:
B01D71/02
B01D71/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
冷却システム及び分離方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020129255A1
,2021-02-15
[42]
多孔性膜及びその製造方法、並びに、ガス分離システム[ja]
[P].
FURUKAWA SHUHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV KYOTO
UNIV KYOTO
FURUKAWA SHUHEI
;
WANG ZAOMING
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV KYOTO
UNIV KYOTO
WANG ZAOMING
.
日本专利
:JP2024135023A
,2024-10-04
[43]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6456075B2
,2019-01-23
[44]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6425378B2
,2018-11-21
[45]
多孔高分子金属錯体、これを用いたガス吸着材、ガス分離装置、ガス貯蔵装置、触媒、導電性材料、センサー[ja]
[P].
日本专利
:JP6761257B2
,2020-09-23
[46]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6456076B2
,2019-01-23
[47]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6452357B2
,2019-01-16
[48]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6132596B2
,2017-05-24
[49]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6338476B2
,2018-06-06
[50]
ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6422211B2
,2018-11-14
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