気体を処理するための系および方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210533389

申请日：

2019-08-22

公开(公告)号：

JP2022508353A

公开(公告)日：

2022-01-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C2/74

IPC分类号：

B01D53/04 B01D53/047 B01D53/14 B01D53/22 B01J3/00 B01J23/50 C01B3/24 C01B3/26 C01B3/56 C07C11/24

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

気体を処理するための系および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023511389A ,2023-03-17

[2]

米油を処理するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015513590A ,2015-05-14

[3]

肺疾患を処置するための方法および組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2025514305A ,2025-05-02

[4]

水素を生成するための方法および装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025513091A ,2025-04-23

[5]

材料を処理するための格納庫[ja] [P].

日本专利 :JP2016512161A ,2016-04-25

[6]

ガスを処理するための反応器[ja] [P].

日本专利 :JP2025506339A ,2025-03-11

[7]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

GORDON WEN-YIN PENG ;

AMBARISH (RISH) CHHATRE ;

DAN MAROHI ;

TAMARAK PANDHUMSOPORN ;

IGNACIO (NACHO) CHAZARO .

日本专利 :JP2023159242A ,2023-10-31

[8]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

GORDON WEN-YIN PENG ;

AMBARISH (RISH) CHHATRE ;

DAN MAROHI ;

TAMARAK PANDHUMSOPORN ;

IGNACIO (NACHO) CHAZARO .

日本专利 :JP2025032248A ,2025-03-11

[9]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

日本专利 :JP7603117B2 ,2024-12-19

[10]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

日本专利 :JP7333780B2 ,2023-08-25

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