プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja]

被引：0

申请号：

JP20230132188

申请日：

2023-08-15

公开(公告)号：

JP2023159242A

公开(公告)日：

2023-10-31

发明(设计)人：

GORDON WEN-YIN PENG AMBARISH (RISH) CHHATRE DAN MAROHI TAMARAK PANDHUMSOPORN IGNACIO (NACHO) CHAZARO

申请人：

LAM RES CORP

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

H05H1/46

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

共 50 条

[1]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

日本专利 :JP2021509770A ,2021-04-01

[2]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

GORDON WEN-YIN PENG ;

AMBARISH (RISH) CHHATRE ;

DAN MAROHI ;

TAMARAK PANDHUMSOPORN ;

IGNACIO (NACHO) CHAZARO .

日本专利 :JP2025032248A ,2025-03-11

[3]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

日本专利 :JP7603117B2 ,2024-12-19

[4]

プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理[ja] [P].

日本专利 :JP7333780B2 ,2023-08-25

[5]

表面を処理するための低温プラズマ装置[ja] [P].

日本专利 :JP2019511817A ,2019-04-25

[6]

生成物分布を改善するための触媒変成処理[ja] [P].

日本专利 :JP5947797B2 ,2016-07-06

[7]

副生成物の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7531273B2 ,2024-08-09

[8]

副生成物の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7531274B2 ,2024-08-09

[9]

高温熱処理によって生成物を処理するためのプラントのための接続装置[ja] [P].

日本专利 :JP7736790B2 ,2025-09-09

[10]

高温熱処理によって生成物を処理するためのプラントのための接続装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023553898A ,2023-12-26

← 1 2 3 4 5 →