高純度キシリレンジアミンの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20060528554
申请日
2005-06-22
公开(公告)号
JPWO2006001298A1
公开(公告)日
2008-04-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07C209/48
IPC分类号
C07C211/27 C07C253/28 C07C255/51
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
キシリレンジアミンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020189227A1 ,2021-04-01
[2]
キシリレンジアミンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6806290B1 ,2021-01-06
[3]
[4]
アルキレンアミン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022519722A ,2022-03-24
[5]
エチレンアミンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021500383A ,2021-01-07
[6]
半導体用途のための高純度エチレンジアミン[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019524746A ,2019-09-05
[7]
ポリアミンの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007135988A1 ,2009-10-01