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高純度キシリレンジアミンの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060528554
申请日
:
2005-06-22
公开(公告)号
:
JPWO2006001298A1
公开(公告)日
:
2008-04-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C209/48
IPC分类号
:
C07C211/27
C07C253/28
C07C255/51
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
キシリレンジアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020189227A1
,2021-04-01
[2]
キシリレンジアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6806290B1
,2021-01-06
[3]
高純度トリシリルアミン、その製造方法、及び使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2019500309A
,2019-01-10
[4]
アルキレンアミン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022519722A
,2022-03-24
[5]
エチレンアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021500383A
,2021-01-07
[6]
半導体用途のための高純度エチレンジアミン[ja]
[P].
日本专利
:JP2019524746A
,2019-09-05
[7]
ポリアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007135988A1
,2009-10-01
[8]
キシリレンジイソシアネートの製造方法およびキシリレンジイソシアネートの製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014163017A1
,2017-02-16
[9]
ジフェニルメタンシリーズのジアミン及びポリアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016520038A
,2016-07-11
[10]
ジフェニルメタンシリーズのジアミン及びポリアミンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016522799A
,2016-08-04
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