塩素含有粉体の脱塩処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210194535

申请日：

2021-11-30

公开(公告)号：

JP7237133B1

公开(公告)日：

2023-03-10

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B09B3/70

IPC分类号：

C02F11/00 C02F11/122 C02F11/123

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共 50 条

[1]

シアン含有排水の処理方法[ja] [P].

ONO TAKASHI .

日本专利 :JP2024048656A ,2024-04-09

[2]

工業塩、工業塩の製造装置及び製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010055703A1 ,2012-04-12

[3]

フッ素元素を含有する排ガスの処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017094417A1 ,2018-09-20

[4]

フッ素元素を含有する排ガスの処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017094418A1 ,2018-09-20

[5]

塩基性物質の製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006038695A1 ,2008-05-15

[6]

塩素化ポリ塩化ビニル樹脂組成物、押出シート及びその製造方法[ja] [P].

LIAO TE-CHAO ;

HSU HAN-CHING ;

CHEN CHUN-LAI ;

WU WEN-YI .

日本专利 :JP2024055727A ,2024-04-18

[7]

半導体処理装置およびその方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019504478A ,2019-02-14

[8]

半導体処理装置およびその方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025511562A ,2025-04-16

[9]

基板処理方法[ja] [P].

NISHIMURA YUDAI .

日本专利 :JP2024121131A ,2024-09-06

[10]

中和処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP5637293B1 ,2014-12-10

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