基板処理用ガス、保管容器および基板処理方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20200509759

申请日：

2019-03-05

公开(公告)号：

JPWO2019188030A1

公开(公告)日：

2021-04-01

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/302

IPC分类号：

C01B7/24

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

基板処理用ガス、保管容器および基板処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7185148B2 ,2022-12-07

[2]

排ガス処理装置用保持材および排ガス処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023017238A ,2023-02-07

[3]

基板処理膜形成用組成物及び基板の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020008965A1 ,2021-07-08

[4]

酸性ガス処理剤及び酸性ガス処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7566291B1 ,2024-10-15

[5]

酸性ガス処理剤及び酸性ガス処理方法[ja] [P].

MORI KOICHI ;

ITO ICHIRO ;

TAKETSUNA HIROTAKA ;

SUZUKI MASAHIRO ;

YOSHIOKA TOSHIAKI ;

KAMEDA TOMOHITO .

日本专利 :JP2025018945A ,2025-02-06

[6]

ガス処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017047730A1 ,2018-07-05

[7]

排ガス処理システム、排ガス処理方法および排ガス処理システムの改造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7690702B1 ,2025-06-10

[8]

水処理方法および水処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025002968A ,2025-01-09

[9]

基板を処理する方法、及び基板を処理する装置[ja] [P].

WADA MAKOTO ;

YAMAZAKI KAZUYOSHI ;

MOROZUMI YUICHIRO .

日本专利 :JP2025058659A ,2025-04-09

[10]

処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法[ja] [P].

IIOKA ATSUSHI ;

AARON GELL .

日本专利 :JP2025040413A ,2025-03-24

← 1 2 3 4 5 →