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投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140009285
申请日
:
2014-01-22
公开(公告)号
:
JP6511701B2
公开(公告)日
:
2019-05-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B13/24
IPC分类号
:
G02B13/22
G03F7/20
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5782336B2
,2015-09-24
[2]
投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5818424B2
,2015-11-18
[3]
投影光学系、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007132862A1
,2009-09-24
[4]
光学素子、投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014181858A1
,2017-02-23
[5]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877965B2
,2016-03-08
[6]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5621806B2
,2014-11-12
[7]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5672424B2
,2015-02-18
[8]
投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6386896B2
,2018-09-05
[9]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007114024A1
,2009-08-13
[10]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007111104A1
,2009-08-06
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