レーザ光照射装置及びリライタブルレーザシステム[ja]

被引:0
申请号
JP20160013169
申请日
2016-01-27
公开(公告)号
JP6671632B2
公开(公告)日
2020-03-25
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B41J2/475
IPC分类号
B23K26/00 G11B7/125
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
レーザ光照射システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5910985B2 ,2016-04-27
[2]
レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6644580B2 ,2020-02-12
[3]
レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689631B2 ,2020-04-28
[4]
レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017155104A1 ,2019-01-10
[5]
レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7174934B2 ,2022-11-18
[6]
レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6896702B2 ,2021-06-30
[8]
レーザー光照射装置及び発光システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7499910B2 ,2024-06-14
[9]
レーザ光照射方法およびレーザ光照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5863568B2 ,2016-02-16
[10]
レーザー光照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013002050A1 ,2015-02-23