レーザー光照射装置及び発光システム[ja]

被引：0

申请号：

JP20230068239

申请日：

2023-04-19

公开(公告)号：

JP7499910B2

公开(公告)日：

2024-06-14

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

F21S2/00

IPC分类号：

F21S8/04 F21V5/02 F21V7/00 F21V7/26 F21V14/04 F21V29/503 F21V29/67 F21V29/70 H01S5/0225 H01S5/024

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レーザー光照射装置、発光システム及び間接照明システム[ja] [P].

日本专利 :JP7267017B2 ,2023-05-01

[2]

レーザ光照射システム[ja] [P].

日本专利 :JP5910985B2 ,2016-04-27

[3]

レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6644580B2 ,2020-02-12

[4]

レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6689631B2 ,2020-04-28

[5]

レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017155104A1 ,2019-01-10

[6]

レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP7174934B2 ,2022-11-18

[7]

レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6896702B2 ,2021-06-30

[8]

レーザ光照射検出装置、レーザ光照射検出方法、レーザ光照射検出システム[ja] [P].

日本专利 :JP6774603B2 ,2020-10-28

[9]

レーザ光照射装置及びリライタブルレーザシステム[ja] [P].

日本专利 :JP6671632B2 ,2020-03-25

[10]

レーザ光照射方法およびレーザ光照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP5863568B2 ,2016-02-16

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