回転照射装置の制御方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20200187303

申请日：

2020-11-10

公开(公告)号：

JP6937420B2

公开(公告)日：

2021-09-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

A61N5/10

IPC分类号：

G21K1/093 G21K5/04

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法律状态信息

共 50 条

[1]

回転照射装置、回転照射方法、及び回転照射治療装置[ja] [P].

日本专利 :JP6794302B2 ,2020-12-02

[2]

回転照射装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009153864A1 ,2011-11-24

[3]

紫外線照射装置、紫外線照射装置の制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP7689638B2 ,2025-06-06

[4]

粒子線回転照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6012245B2 ,2016-10-25

[5]

粒子線回転照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP5907862B2 ,2016-04-26

[6]

光照射制御装置および光照射制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018225241A1 ,2019-11-07

[7]

深紫外線照射装置、照射制御方法[ja] [P].

MATSUMOTO MASAHIRO ;

MATSUMOTO SHIN ;

ASADA TADASHI .

日本专利 :JP2024112465A ,2024-08-21

[8]

照射方向制御装置、照射方向制御照射装置、照射方向制御方法、プログラム及び記録媒体[ja] [P].

OKAYAMA YASUHIKO .

日本专利 :JP2024082036A ,2024-06-19

[9]

高周波照射装置及びその制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP7566106B2 ,2024-10-11

[10]

粒子線照射装置および粒子線照射装置の制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP6358948B2 ,2018-07-18

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