照射方向制御装置、照射方向制御照射装置、照射方向制御方法、プログラム及び記録媒体[ja]

被引：0

申请号：

JP20220195734

申请日：

2022-12-07

公开(公告)号：

JP2024082036A

公开(公告)日：

2024-06-19

发明(设计)人：

OKAYAMA YASUHIKO

申请人：

HOTALUX LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

H05B47/125

IPC分类号：

H05B47/175

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

光照射制御装置および光照射制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018225241A1 ,2019-11-07

[2]

制御装置、照射システム、制御方法、及びプログラム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019159802A1 ,2021-02-12

[3]

深紫外線照射装置、照射制御方法[ja] [P].

MATSUMOTO MASAHIRO ;

MATSUMOTO SHIN ;

ASADA TADASHI .

日本专利 :JP2024112465A ,2024-08-21

[4]

ビーム照射装置及びビーム照射制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011080942A1 ,2013-05-09

[5]

描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5644287B2 ,2014-12-24

[6]

描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5708859B2 ,2015-04-30

[7]

照射装置、照射方法、プログラム及び媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5935755B2 ,2016-06-15

[8]

描画制御方法、レーザ照射装置、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5915781B2 ,2016-05-11

[9]

描画制御方法、レーザ照射装置、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5720155B2 ,2015-05-20

[10]

紫外線照射装置、紫外線照射装置の制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP7689638B2 ,2025-06-06

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