描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja]

被引：0

申请号：

JP20100199890

申请日：

2010-09-07

公开(公告)号：

JP5644287B2

公开(公告)日：

2014-12-24

发明(设计)人：

申请人：

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IPC主分类号：

B41J2/475

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法律状态信息

共 50 条

[1]

描画制御装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5708859B2 ,2015-04-30

[2]

描画装置、レーザ照射装置、描画制御方法、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5672889B2 ,2015-02-18

[3]

描画制御方法、レーザ照射装置、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5720155B2 ,2015-05-20

[4]

描画制御方法、レーザ照射装置、描画制御プログラム、及びこれを記録した記録媒体[ja] [P].

日本专利 :JP5915781B2 ,2016-05-11

[5]

照射方向制御装置、照射方向制御照射装置、照射方向制御方法、プログラム及び記録媒体[ja] [P].

OKAYAMA YASUHIKO .

日本专利 :JP2024082036A ,2024-06-19

[6]

制御装置、照射システム、制御方法、及びプログラム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019159802A1 ,2021-02-12

[7]

処理装置、処理方法、コンピュータプログラム、記録媒体及び制御装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019151240A1 ,2021-02-12

[8]

処理装置、処理方法、コンピュータプログラム、記録媒体及び制御装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023065411A ,2023-05-12

[9]

制御装置、照射装置、制御方法、およびコンピュータプログラム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019188639A1 ,2021-03-11

[10]

レーザー照射装置及びその制御方法[ja] [P].

UENO KAZUHIKO ;

MIYAZAKI HARUOMI .

日本专利 :JP2025059178A ,2025-04-10

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