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ビーム照射装置及びビーム照射制御方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110547355
申请日
:
2010-08-05
公开(公告)号
:
JPWO2011080942A1
公开(公告)日
:
2013-05-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61N5/10
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ビーム照射装置及びビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6253524B2
,2017-12-27
[2]
ビーム照射装置、ビーム照射制御方法及び重粒子線治療装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5610404B2
,2014-10-22
[3]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7624829B2
,2025-01-31
[4]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6221999B2
,2017-11-01
[5]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6398961B2
,2018-10-03
[6]
ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6440809B2
,2018-12-19
[7]
荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6210493B2
,2017-10-11
[8]
イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置[ja]
[P].
UCHIDA YUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSIN ION EQUIPMENT CO LTD
NISSIN ION EQUIPMENT CO LTD
UCHIDA YUYA
;
KAI HIROAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NISSIN ION EQUIPMENT CO LTD
NISSIN ION EQUIPMENT CO LTD
KAI HIROAKI
.
日本专利
:JP2024139099A
,2024-10-09
[9]
電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6040920B2
,2016-12-07
[10]
粒子線ビーム照射装置および粒子線ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009035080A1
,2010-12-24
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