ビーム照射装置、ビーム照射制御方法及び重粒子線治療装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20110547355

申请日：

2010-08-05

公开(公告)号：

JP5610404B2

公开(公告)日：

2014-10-22

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IPC主分类号：

A61N5/10

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ビーム照射装置及びビーム照射制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011080942A1 ,2013-05-09

[2]

粒子線ビーム照射装置および粒子線ビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009035080A1 ,2010-12-24

[3]

ビーム照射装置及びビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6253524B2 ,2017-12-27

[4]

重粒子ビーム照射装置及び治療システム[ja] [P].

TAKAYAMA SHIGEKI ;

SAKAMOTO KEITA ;

ORIGASA TOMOFUMI ;

SAKAI YASUYUKI ;

RYUTO HIROMITSU ;

OTA TOMOKO ;

HIRATA HIROSHI .

日本专利 :JP2025113797A ,2025-08-04

[5]

粒子ビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP7291047B2 ,2023-06-14

[6]

粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP6184334B2 ,2017-08-23

[7]

粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja] [P].

日本专利 :JP5904102B2 ,2016-04-13

[8]

粒子線ビーム位置安定化装置及び方法、粒子線ビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6602732B2 ,2019-11-06

[9]

重粒子ビームの照射装置及び治療システム[ja] [P].

TAKAYAMA SHIGEKI ;

ORIGASA TOMOFUMI ;

SAKAI YASUYUKI ;

RYUTO HIROMITSU ;

OTA TOMOKO ;

HIRATA HIROSHI .

日本专利 :JP2025113837A ,2025-08-04

[10]

荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6210493B2 ,2017-10-11

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