粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja]

被引:0
申请号
JP20140017102
申请日
2014-01-31
公开(公告)号
JP6184334B2
公开(公告)日
2017-08-23
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61N5/10
IPC分类号
G01T1/29 G21K5/00 G21K5/04
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5904102B2 ,2016-04-13
[3]
[4]
ビーム照射装置及びビーム照射制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011080942A1 ,2013-05-09
[6]
荷電粒子ビーム照射装置、及び制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7360871B2 ,2023-10-13
[7]
[8]
粒子線照射装置およびその制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6537067B2 ,2019-07-03