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粒子線ビーム位置安定化装置及び方法、粒子線ビーム照射装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160166398
申请日
:
2016-08-29
公开(公告)号
:
JP6602732B2
公开(公告)日
:
2019-11-06
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61N5/10
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
粒子線ビーム照射装置および粒子線ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009035080A1
,2010-12-24
[2]
粒子線ビーム照射装置及び粒子線ビーム表示プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP6869479B2
,2021-05-12
[3]
ビーム照射装置、ビーム照射制御方法及び重粒子線治療装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5610404B2
,2014-10-22
[4]
粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7291047B2
,2023-06-14
[5]
荷電粒子ビーム照射装置及び荷電粒子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6210493B2
,2017-10-11
[6]
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5904102B2
,2016-04-13
[7]
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6184334B2
,2017-08-23
[8]
荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7293042B2
,2023-06-19
[9]
荷電粒子ビーム照射方法および荷電粒子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7646582B2
,2025-03-17
[10]
ビーム照射装置及びビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6253524B2
,2017-12-27
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