粒子線ビーム位置安定化装置及び方法、粒子線ビーム照射装置[ja]

被引:0
申请号
JP20160166398
申请日
2016-08-29
公开(公告)号
JP6602732B2
公开(公告)日
2019-11-06
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61N5/10
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[4]
粒子ビーム照射装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7291047B2 ,2023-06-14
[6]
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5904102B2 ,2016-04-13
[7]
粒子線ビーム照射装置及びその制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6184334B2 ,2017-08-23
[10]
ビーム照射装置及びビーム照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6253524B2 ,2017-12-27